在光刻机领域内，ASML的技术最先进，其研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场。
尤其是EUV光刻机，目前仅有ASML能够研发制造，由于其是生产制造7nm以下芯片的必要设备，所以该光刻机被制造出来后就供不应求。
据悉，ASML已经出货100余台EUV光刻机，但仍积压几十亿欧元的EUV光刻机订单，于是，ASML宣布提高产能，预计明后两年生产制造115台EUV光刻机。
虽然ASML是唯一能够生产制造EUV光刻机的厂商，但EUV光刻机在2019年就不能自由出货，除非是获得了许可。
3年来，ASML一直都在争取自由出货，高通拿到自由出货许可后，ASML也学习高通发出了警告，目的就是想实现EUV光刻机自由出货。
结果却不尽人意，ASML日前也表示，DUV光刻机正常出货，但EUV光刻机暂时无法自由出货。另外，EUV光刻机也无法出货安装到外企中国分厂。
不过，韩国芯片巨头SK明确表示，正在积极为中国厂商引进EUV光刻机，目前进展顺利，这意味着此事还是有希望的。
等不了了？ASML就新一代EUV光刻机亮明态度
但EUV光刻机迟迟无法自由出货，这让ASML等不了了，毕竟，ASML的营收主要都来自EUV光刻机，其单价是DUV光刻机的好几倍。
更何况，ASML还计划在2025年实现营收超300亿欧元，这意味着其必须依靠EUV光刻机获得更多营收，销售更多的EUV光刻机。
在这样的情况下，ASML就新一代EUV光刻机亮明了态度。
都知道，ASML正在研发全新一代EUV光刻机，其被命名为NA EUV光刻机，与现有的EUV光刻机相比，其NA值从0.33提升到0.55。
也就是说，ASML全新一代光刻机拥有更高的曝光度，可以生产制造更先进制程的芯片，甚至能够将芯片制程缩至1nm以下。
不仅如此，ASML全新一代光刻机拥有更高的NA值，其生产效率也将随着提升，单位时间量产的晶圆数量肯定要远超170片，而170片是现有EUV光刻机每小时的曝光量。
据悉，ASML原本计划在2024年左右交付全新一代EUV光刻机，如今，ASML亮明了态度，将全新一代EUV光刻机提前一年交付给厂商测试、研发，即2023年。
最主要的是，ASML方面传来的消息称，全新一代EUV光刻机的售价将会超过3亿美元，售价是现有EUV光刻机的3倍左右。
ASML此时透露全新一代EUV光刻机的交付测试时间和售价，相当于亮明了态度，EUV光刻机无法自由出货，就通过全新一代EUV光刻机获得更多的营收。
当然，即便是ASML如此涨价，其依旧不用担心全新一代EUV光刻机的销量。
因为目前只有ASML能够生产制造EUV光刻机，而全新一代EUV光刻机的技术更为先进，短时间内仍将是ASML独有的。
另外，全新一代EUV光刻机还没有上市，三星和英特尔都明确表达想优先获得该光刻机的意愿。
要知道，三星和英特尔都计划在2025年超越台积电成为第一，而全新一代EUV光刻机对英特尔和三星都十分重要，其自然会争相购买。
毕竟，全新一代EUV光刻机交付后，不仅能够提升3nm芯片的生产效率以及良品率，还能够用于生产制造GAA 工艺的3nm和2nm芯片。
最主要的是，台积电是目前先进制程芯片产能最大的厂商，英特尔和三星要想超越台积电，自然会需要更多全新一代EUV光刻机来提高产能。