礼鼎半导体取得除铜装置及电镀生产线专利,实现高效除铜

金融界
2025-04-19 10:52 来自北京

金融界2025年4月19日消息,国家知识产权局信息显示,礼鼎半导体科技秦皇岛有限公司;礼鼎半导体科技(深圳)有限公司取得一项名为“除铜装置及电镀生产线”的专利,授权公告号CN222771001U,申请日期为2024年6月。

专利摘要显示,本申请公开除铜装置和电镀生产线。除铜装置包括进液腔体、活塞组件、连通腔体和过滤组件。活塞组件包括活塞腔体、活塞和推杆,活塞滑动地且密封地设置于活塞腔体内,推杆与活塞连接并部分伸出活塞腔体外,过滤组件包括过滤腔体和设置于过滤腔体内的除铜树脂,进液腔体、活塞腔体、连通腔体和过滤腔体依次连通,进液腔体设有第一进液口和第一阀门,连通腔体设有第二入口和第二阀门,第一阀门用于控制第一进液口的开闭,第二阀门用于控制第二入口的开闭,推杆被配置为推动活塞朝向或远离活塞腔体底部移动。

天眼查资料显示,礼鼎半导体科技秦皇岛有限公司,成立于2021年,位于秦皇岛市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析,礼鼎半导体科技秦皇岛有限公司参与招投标项目9次,专利信息168条,此外企业还拥有行政许可36个。

礼鼎半导体科技(深圳)有限公司,成立于2019年,位于深圳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本17846.4543万美元。通过天眼查大数据分析,礼鼎半导体科技(深圳)有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目12次,财产线索方面有商标信息2条,专利信息141条,此外企业还拥有行政许可145个。

热点新闻