长鑫科技获得发明专利授权:“半导体结构的制备方法及半导体结构”

证券之星
 来自上海

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示长鑫科技(688825)新获得一项发明专利授权,专利名为“半导体结构的制备方法及半导体结构”,专利申请号为CN202310943290.2,授权日为2026年8月28日。

专利摘要:本公开提供了一种半导体结构的制备方法,其包括:提供衬底,衬底包括阵列区、第一外围区和第二外围区;在衬底上形成依次层叠的第一硬掩模层和第二硬掩模层,第一硬掩模层和第二硬掩模层均具有露出第一外围区的开口,第一硬掩模层的材料不同于第二硬掩模层的材料;以第二硬掩模层为掩模,在第一外围区上形成第一外延层,第一外延层的材料不同于衬底的材料;去除第二硬掩模层;以第一硬掩模层为掩模,在第一外延层上形成第二外延层,第二外延层的材料不同于第一外延层的材料;以及,去除第一硬掩模层。

今年以来长鑫科技新获得专利授权39个。结合公司2026年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了55.37亿元,同比增51.27%。

通过天眼查大数据分析,长鑫科技集团股份有限公司共对外投资了16家企业,参与招投标项目1084次;财产线索方面有商标信息420条,专利信息715条,著作权信息25条;此外企业还拥有行政许可44个。

数据来源:天眼查APP

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