证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种等离子体限制系统、等离子体处理装置及刻蚀方法”，专利申请号为CN202310451342.4，授权日为2026年9月8日。
专利摘要：本发明公开了一种等离子体限制系统、等离子体处理装置及刻蚀方法。所述等离子体限制系统用于等离子体处理装置，包括：等离子体限制环，其配置有抽气通道，所述抽气通道的一端连通刻蚀区域，另一端连通排气区域；阻抗匹配元件，所述等离子体限制环能够通过所述阻抗匹配元件接地。本发明能够根据制程需要使等离子体限制环具有适配的对地电容，提高大射频功率时的等离子体约束性能。
今年以来中微公司新获得专利授权116个，与去年同期持平。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元，同比增17.31%。
通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目92次；财产线索方面有商标信息131条，专利信息1745条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可88个。
数据来源：天眼查APP
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