中微公司获得发明专利授权:“一种等离子体处理装置及使用方法”

证券之星
 来自上海

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种等离子体处理装置及使用方法”,专利申请号为CN202211227972.5,授权日为2026年9月8日。

专利摘要:本发明公开一种等离子体处理装置及使用方法,所述等离子体处理装置包括:反应腔;基座,其设置于所述反应腔内部,用于承载基片;喷淋头,与所述基座相对设置于所述反应腔内部,用于向所述基座和所述喷淋头之间的反应区域通入工艺气体,以形成等离子体;移动环,其可在高位和低位之间升降,且在所述低位时,所述移动环围绕所述反应区域设置;以及磁场发生装置,其设置于所述移动环上且随所述移动环升降,所述移动环在所述低位时,所述磁场发生装置围绕所述反应区域。本发明中通过磁场发生装置在反应区域内产生第一磁场,可以改变等离子体刻蚀的方向和速率,且使反应区域内等离子体密度分布可以灵活调节,从而保证基片的刻蚀均匀性。

今年以来中微公司新获得专利授权116个,与去年同期持平。结合公司2026年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元,同比增17.31%。

通过天眼查大数据分析,中微半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了31家企业,参与招投标项目92次;财产线索方面有商标信息131条,专利信息1745条,著作权信息13条;此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源:天眼查APP

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