兴福电子获得发明专利授权:“一种氮化硅和钨的选择性蚀刻液”

证券之星
 来自上海

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示兴福电子(688545)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种氮化硅和钨的选择性蚀刻液”,专利申请号为CN202311464107.7,授权日为2026年9月8日。

专利摘要:本发明提供了一种氮化硅和钨的选择性蚀刻液,按质量百分数计,包括72%‑85%的电子级磷酸、1.25%‑1.75%的含硅化合物、0.0263%‑0.0369%的氢氟酸、0.02%‑0.07%的磺酸类物质、0.1%‑1.0%的钨蚀刻抑制剂,其余成分为去离子水。本发明所述的蚀刻液能够在氧化硅蚀刻速率(ER)≤0.96nm/30min的前提下,较快的蚀刻氮化硅,最大程度抑制金属钨的蚀刻,保证氮化硅和金属钨具有较高的选择比。

今年以来兴福电子新获得专利授权62个,较去年同期增加了113.79%。结合公司2026年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了4218.31万元,同比增7.51%。

通过天眼查大数据分析,湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业,参与招投标项目263次;财产线索方面有商标信息7条,专利信息549条,著作权信息6条;此外企业还拥有行政许可290个。

数据来源:天眼查APP

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