全球唯一能够制造极紫外(EUV)光刻设备的公司ASML，其首席执行官克里斯托夫・福凯近日表示，人工智能热潮对社会和芯片产业的影响不会在短期内结束，而是可能在未来10至15年持续展开。他形容目前AI带来的变化 "只是冰山一角"。
福凯指出，要满足未来的人工智能需求，不仅需要更多的AI加速器，还需要改进光学系统、发展更先进的光刻技术。这一判断，也呼应了ASML近期的技术布局 —— 就在此前，ASML与光学伙伴蔡司公布了下一代Hyper NA EUV光刻机的蓝图，该设备预计约10年后准备就绪，可实现5纳米单次曝光。
作为全球光刻机市场的绝对龙头，ASML的产能与订单往往被视为半导体产业景气度的风向标。其"AI影响将持续10–15年"的表态，意味着高端光刻设备与先进制程的需求具备长期支撑。这也从侧面解释了为何存储、显卡、光刻机等半导体上游环节集体涨价扩产 —— 因为下游AI需求被认为具有数十年维度的确定性。对行业而言，这是一轮由AI驱动的结构性增长周期。